Сегодня талантливая команда специалистов по химическому и материальному инжинирингу из Гонконгского Университета представила результаты своего действительно необычного исследования относительно разработки более легких, качественных и эффективных антибактериальных масок против бактерий разного рода. В частности, сегодня стало известно о том, что команде специалистов удалось представить не просто новый формат масок как таковых, но концептуально новую техническую базу их разработки, причем речь идет об использовании графена в качестве основы, осуществляющей избавление от бактерии. С учетом всех предыдущих исследований, становится понятно, что их ждет успех.
Ранние исследования в отношении использования графена в качесте основы для уничтожения большей части известных вредоносных бактерий демонстрировали, что такие свойства материал в самом деле располагает только в том случае, если получить его в качестве тонкого слоя на полиамидовой пленке, путем нанесения на нее диоксида углерода, при помощи системы инфракрасного лазера. Именно такой подход позволяет добиться не только достаточно плотного слоя графена на поверхности полиамидовой пленки, но также сделать его максимально устойчивым к абсолютному большинству бактерий.
Таким образом, путем оптимизации указанного процесса специалисты из Гонконга сумели создать новый подход к производству антибактериальных масок с графеном в качестве основного антибактериального компонента, и провести соответствующие тесты – оказалось, что присутствие графена является идеальным условием для избавления от абсолютного большинства вредоносных бактерий даже в течение длительного времени после использования маски.
С другой стороны, ученые говорят о необходимости как можно более точный и правильным образом справиться с оптимизацией процесса по созданию графеновых масок на основе более компактных и легкодоступных материалов, однако для такого подхода необходимо достаточно серьезно подойти к оптимизации процесса как такового. Таким образом, остается лишь дожидаться относительно окончания текущего этапа разработки и первых развернутых планов специалистов по представлению универсальной системы разработки графеновых масок.
